【答】E-MOSFET的閾值電壓就是使半導(dǎo)體表面產(chǎn)生反型層(導(dǎo)電溝道)所需" />
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詳解MOS器件的重要特性(圖文)

時間:2018-12-21 14:22:54來源:網(wǎng)絡(luò) 作者:電子愛好者 點(diǎn)擊:
一、為什么E-MOSFET的閾值電壓隨著半導(dǎo)體襯底摻雜濃度的提高而增大?而隨著溫度的升高而下降?
  【答】E-MOSFET的閾值電壓就是使半導(dǎo)體表面產(chǎn)生反型層(導(dǎo)電溝道)所需

  在線性區(qū)時,由于源-漏電壓較低,則整個溝道的寬度從頭到尾變化不大,這時柵極電壓控制溝道導(dǎo)電的能力相對地較差一些,于是跨導(dǎo)較小。同時,隨著源-漏電壓的增大,溝道寬度的變化增大,使得漏端處的溝道寬度變小,則柵極電壓控制溝道導(dǎo)電的能力增強(qiáng),跨導(dǎo)增大。
  而在飽和區(qū)時,源-漏電壓較高,溝道夾斷,即在漏極端處的溝道寬度為0,于是柵極電壓控制溝道導(dǎo)電的能力很強(qiáng)(微小的柵極電壓即可控制溝道的導(dǎo)通與截止),所以這時的跨導(dǎo)很大。因此,飽和區(qū)跨導(dǎo)大于線性區(qū)跨導(dǎo)。
  可見,溝道越是接近夾斷,柵極的控制能力就越強(qiáng),則跨導(dǎo)也就越大;溝道完全夾斷后,電流飽和,則跨導(dǎo)達(dá)到最大——飽和跨導(dǎo)。
  七、為什么MOSFET的飽和跨導(dǎo)一般與飽和電壓成正比?但為什么有時又與飽和電壓成反比?


  【答】①在源-漏電壓VDS一定時:由E-MOSFET的飽和電流IDsat對柵電壓的微分,即可得到飽和跨導(dǎo)gmsat與飽和電壓(VGS-VT)成正比:
  這種正比關(guān)系的得來,是由于飽和電壓越高,就意味著溝道越不容易夾斷,則導(dǎo)電溝道厚度必然較大,因此在同樣?xùn)艠O電壓下的輸出源-漏電流就越大,從而跨導(dǎo)也就越大。
 、谠陲柡碗娏鱅Dsat一定時:飽和跨導(dǎo)gmsat卻與飽和電壓(VGS-VT)成反比:
  這是由于飽和電壓越高,就意味著溝道越難以夾斷,則柵極的控制能力就越小,即跨導(dǎo)越小。
  總之,在源-漏電壓一定時,飽和跨導(dǎo)與飽和電壓成正比,而在源-漏電流一定時,飽和跨導(dǎo)與飽和電壓成反比。
  這種相反的比例關(guān)系,在其他場合也存在著,例如功耗P與電阻R的關(guān)系:當(dāng)電流一定時,功耗與電阻成正比(P=IV=I2R);當(dāng)電壓一定時,功耗與電阻成反比(P=IV=V2/R)。
  八、為什么MOSFET的線性區(qū)源-漏電導(dǎo)等于飽和區(qū)的跨導(dǎo)(柵極跨導(dǎo))?


  【答】MOSFET的線性區(qū)源-漏電導(dǎo)gdlin和飽和區(qū)的柵極跨導(dǎo)gmsat,都是表征電壓對溝道導(dǎo)電、即對源-漏電流控制能力大小的性能參數(shù)。
  在線性區(qū)時,溝道未夾斷,但源-漏電壓將使溝道寬度不均勻;這時源-漏電壓的變化,源-漏電導(dǎo)gdlin即表征著在溝道未夾斷情況下、源-漏電壓對源-漏電流的控制能力,這種控制就是通過溝道寬度發(fā)生不均勻變化而起作用的。
  而飽和區(qū)的柵極跨導(dǎo)——飽和跨導(dǎo)gmsat是表征著在溝道夾斷情況下、柵-源電壓對源-漏電流的控制能力,這時剩余溝道的寬度已經(jīng)是不均勻的,則這種控制也相當(dāng)于是通過溝道寬度發(fā)生不均勻變化而起作用的,因此這時的柵極跨導(dǎo)就等效于線性區(qū)源-漏電導(dǎo):
  九、為什么在E-MOSFET的柵-漏轉(zhuǎn)移特性上,隨著柵-源電壓的增大,首先出現(xiàn)的是飽和區(qū)電流、然后才是線性區(qū)電流?


  【答】E-MOSFET的柵-漏轉(zhuǎn)移特性如圖1所示。在柵-源電壓VGS小于閾值電壓VT時,器件截止(沒有溝道),源-漏電流電流很。ǚQ為亞閾電流)。
  在VGS>VT時,出現(xiàn)溝道,但如果源-漏電壓VDS=0,則不會產(chǎn)生電流;只有在VGS>VT和VDS>0時,才會產(chǎn)生電流,這時必然有VDS >(VGS-VT),因此MOSFET處于溝道夾斷的飽和狀態(tài),于是源-漏電流隨柵-源電壓而平方地上升。相應(yīng)地,飽和跨導(dǎo)隨柵-源電壓而線性地增大,這是由于飽和跨導(dǎo)與飽和電壓(VGS-VT)成正比的緣故。
  而當(dāng)柵-源電壓進(jìn)一步增大,使得VDS<(VGS-VT)時,則MOSFET又將轉(zhuǎn)變?yōu)闇系牢磰A斷的線性工作狀態(tài),于是源-漏電流隨柵-源電壓而線性地增大。這時,跨導(dǎo)不再變化(與柵電壓無關(guān))。
  十、為什么MOSFET的電流放大系數(shù)截止頻率fT與跨導(dǎo)gm成正比?


  【答】MOSFET的fT就是輸出電流隨著頻率的升高而下降到等于輸入電流時的頻率。器件的跨導(dǎo)gm越大,輸出的電流就越大,則輸出電流隨頻率的下降也就越慢,從而截止頻率就越大,即fT與gm有正比關(guān)系:
  由于fT與gm的正比關(guān)系,就使得fT與飽和電壓(VGS-VT)也有正比關(guān)系,從而高頻率就要求較大的飽和電壓。
  十一、為什么提高M(jìn)OSFET的頻率與提高增益之間存在著矛盾?
  【答】MOSFET的高頻率要求它具有較大的跨導(dǎo),而在源-漏電壓一定的情況下,較大的跨導(dǎo)又要求它具有較大的飽和電壓(VGS-VT),所以高頻率也就要求有較大的飽和電壓。
  因為MOSFET的電壓增益是在源-漏電流一定的情況下、輸出電壓VDS對柵-源電壓VGS的微分,則飽和狀態(tài)的電壓增益Kvsat將要求器件具有較小的飽和電壓(VGS-VT):


  這是由于在IDsat一定時,飽和電壓越低,飽和跨導(dǎo)就越大,故Kvsat也就越大。
  可見,提高頻率與增大電壓增益,在對于器件飽和電壓的要求上存在著矛盾。因此,在工作電流IDsat一定時,為了提高電壓增益,就應(yīng)該減小(VGS-VT)和增大溝道長度L。這種考慮對于高增益MOSFET具有重要的意義;但是這種減小(VGS-VT)的考慮卻對于提高截止頻率不利。
  十二、為什么E-MOSFET的柵-源短接而構(gòu)成的MOS二極管存在著“閾值損失”?
  【答】這種集成MOS二極管的連接方式及其伏安特性如圖2所示。因為柵極與漏極短接,則VGS=VDS。因此,當(dāng)電壓較。╒GS=VDS<VT)時,不會出現(xiàn)溝道,則器件處于截止?fàn)顟B(tài),輸出電流IDS=0;當(dāng)電壓高于閾值電壓(VGS=VDS≥VT)時,因為總滿足VDS>(VGS-VT)關(guān)系,于是出現(xiàn)了溝道、但總是被夾斷的,所以器件處于飽和狀態(tài),輸出源-漏電流最大、并且飽和,為恒流源。


  由于VGS=VDS,所以這種二極管的輸出伏安特性將與轉(zhuǎn)移特性完全一致。因為MOSFET的飽和輸出電流IDsat與飽和電壓(VGS-VT)之間有平方關(guān)系,所以該二極管在VGS=VDS≥VT時的輸出伏安特性為拋物線關(guān)系,并且這也就是其轉(zhuǎn)移特性的關(guān)系。
  所謂閾值損失,例如在門電路中,是輸出高電平要比電源電壓低一個閾值電壓大小的一種現(xiàn)象。由E型,柵-漏短接的MOS二極管的伏安特性可以見到,當(dāng)其輸出源-漏電流IDS降低到0時,其源-漏電壓VDS也相應(yīng)地降低到VT。這就意味著,這種二極管的輸出電壓最低只能下降到VT,而不能降低到0。這種“有電壓、而沒有電流”的性質(zhì),對于用作為有源負(fù)載的這種集成MOS二極管而言,就必將會造成閾值損失。
  十三、為什么在MOSFET中存在有BJT的作用?這種作用有何危害?


  【答】①對于常規(guī)的MOSFET:如圖3(a)所示,源區(qū)、漏區(qū)和p襯底即構(gòu)成了一個npn寄生晶體管。當(dāng)溝道中的電場較強(qiáng)時,在夾斷區(qū)附近的電子即將獲得很大的能量而成為熱電子,然后這些熱電子通過與價電子的碰撞、電離,就會形成一股流向襯底的空穴電流Ib;該過襯底電流就是寄生晶體管的基極電流,在熱電子效應(yīng)較嚴(yán)重、襯底電流較大時,即可使寄生晶體管導(dǎo)通,從而破壞了MOSFET的性能。這種熱電子效應(yīng)的不良影響往往是較短溝道MOSFET的一種重要失效機(jī)理。容-源-電-子-網(wǎng)-為你提供技術(shù)支持

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